Suche
Anzeige der Dokumente 1-4 von 4
Ресурс электродов технологической установки «ПУСК»
(ХАИ, 2013)
Разработана модель прогнозирования ресурса электродов установки «ПУСК», которая
учитывает действие электродных пятен, испарение, распыление, напряженное состояние
электродов и эрозию в режиме выхода на стационарный режим ...
Особенности теоретического рассмотрения процессов в электродных пятнах вакуумного разряда
(ХАИ, 2013)
Рассмотрена модель процессов в катодном и анодном пятне вакуумного разряда.
Исследовано влияние скорости перемещения пятна на поле температур и температурных
напряжений. Доказана возможность термоупругого разрушения ...
Эффективная обработка закаленных сталей, высокопрочных и тугоплавких материалов РИ с покрытиями и упрочненными слоями
(ХАИ, 2013)
Получены режимы эффективной обработки высокопрочных и тугоплавких материалов и
закаленных сталей по таким критериям: обрабатываемости, максимальному снимаемому
объему материала за период стойкости, стойкости, производительности ...
Параметры катодных и анодных пятен в технологических плазменных устройствах (эксперимент)
(ХАИ, 2013)
Представлены методики и результаты исследования времени жизни и плотности тока,
скорости перемещения катодных и анодных пятен на основе расшифровки ЭОП-грамм,
полученных с применением лупы времени ЛВ-04.