Искать
Отображаемые элементы 1-2 из 2
Формирование проводящей пленки на поверхности диэлектрика пускового инжектора источника плазмы
(ХАИ, 2013)
Приведены результаты исследований по формированию проводящей пленки в разрядном промежутке
пускового инжектора в процессе работы вакуумно-дугового источника плазмы. Пленка осаждалась на
торцевую поверхность трубки из ...
Тепловой режим катодов технологических источников плазмы
(ХАИ, 2013)
Рассмотрен тепловой режим катодов вакуумно-дуговых источников плазмы с различным
типом охлаждения. Исследовано стационарное температурное поле катода с охлаждением
как по торцевой, так и по боковой поверхностям при ...