Исследование влияния места размещения детали на плоской подложке на плотность тока при различных углах падения ионов для плазменно-ионной обработки
Переглянути
Дата
2003Автор
Костюк, Г.И.
Романенко, С.А.
Белов, Н.Л.
Решетников, В.И.
Metadata
Показати повний опис матеріалуКороткий опис(реферат)
В статье приведены результаты исследования влияния места размещения детали на плоской подложке на плотность тока при разных углах падения ионов для плазменно-ионной обработки при разных токах дуги, напряжении на подложке, давлении реакционного газа, токе в управляющем магните. Показано, что углы падения частиц ионного потока, при которых реализуется максимальная плотность тока, находятся в диапазоне от α = 00 α = 200. При варьировании значения напряженности внешнего магнитного фокусирующего поля в диапазоне Н = 50э до Н = 150э изменение угла разлета ионного потока незначительно и находится в пределах 1,5 – при L = 330 мм и 3 – 4 0 при L = 470 мм. У статті наведено результати дослідження впливу місця розміщення деталі на плоскій підкладці на щільність струму при різних кутах падіння іонів для плазмово-іонної обробки при різних струмах дуги, напрузі на підкладці, тиск реакційного газу, струмі в магніті, що управляє. Показано, що кути падіння частинок іонного потоку, при яких реалізується максимальна щільність струму, знаходяться в діапазоні від α = 00 α = 200. При варіюванні значення напруженості зовнішнього магнітного фокусуючого поля в діапазоні Н = 50е до Н = 150е зміна кута розльоту і знаходиться в межах 1,5 – при L = 330 мм та 3 – 4 0 при L = 470 мм. In the paper the results of studies of the part location on a flat substrate influence on current density at various angles of ion flux for plasma-ion treatment at various arc currents, substrate voltages, reactive gas pressure and control magnetic coil are shown. It is demonstrated that the ion flux angle of incidence at which the maximum current density is provided are in the range of α = 00 to α = 200. When changing the external focusing magnetic field in the range of Н = 50 oersted to Н = 150 oersted the angle of ion flux divergence is insignificant and falls into the limits of 1.5 ° at the length of L = 330 mm and 3 – 4 ° at the length of L = 470 mm.