Интегральные характеристики разряда в инверсном магнетроне с газовым анодом, секционированными катодными узлами и осевыми потоками плазмы

Abstract

Показана необходимость использования контролируемого метода нанесения покрытий для реализации принципа конструирования покрытий. Сделан вывод о перспективности использования для решения стоящей задачи установок на основе инверсной магнетронной распылительной системы с газовым анодом, секционированными катодными узлами и осевыми потоками плазмы. Представлены и проанализированы результаты измерения интегральных характеристик исследуемой распылительной системы в зависимости от давления плазмообразующего газа и величины индукции магнитного поля в разрядном промежутке. Показано, что вольтамперные характеристики исследуемой распылительной системы и их изменение в зависимости от основных параметров, влияющих на ее работу, сходны по своему характеру с другими магнетронными распылительными системами. Даны рекомендации по выбору параметров ее работы.

Показано необхідність використання контрольованого методу нанесення покриттів для реалізації принципу конструювання покриттів. Зроблено висновок про перспективність використання для вирішення завдання установок на основі інверсної магнетронної розпилювальної системи з газовим анодом, секційованими катодними вузлами і осьовими потоками плазми. Представлено та проаналізовано результати вимірювання інтегральних характеристик досліджуваної розпилювальної системи залежно від тиску плазмоутворюючого газу та величини індукції магнітного поля в розрядному проміжку. Показано, що вольтамперні характеристики досліджуваної розпилювальної системи та їх зміна в залежності від основних параметрів, що впливають на її роботу, подібні за своїм характером з іншими магнетронними розпилювальними системами. Надано рекомендації щодо вибору параметрів її роботи.