Контроль эмиссионной неоднородности рабочей поверхности термокатода в процессе эмиссионных испытаний
Короткий опис(реферат)
Представлены результаты анализа эмиссионно-неоднородной (пятнистой) поверхности термокатода. Учитывается наличие двух сортов пятен. Влияние контактного поля пятен на величину анодного
тока диода рассматривается как перехват электронов пятнами, имеющими бóльшую работу выхода.
В качестве характеристики, определяющей этот процесс, предлагается параметр перехвата. Использование компьютерного моделирования эмитирующей поверхности, имеющей два сорта пятен, и
параметра перехвата, определяемого из эксперимента, дает возможность найти значения работы
выхода пятен и значения долей поверхности, занимаемых этими пятнами. Наведено результати аналізу емісійно-неоднорідної (плямистої) поверхні термокатоду. Враховується
наявність двох сортів плям. Вплив контактного поля плям на значення анодного струму діода розглядається
як перехоплення електронів плямами, які мають більшу роботу виходу. В якості характеристики, що визначає цей процес запропоновано параметр перехоплення. Використання комп‘ютерного моделювання емітуючої поверхні, яка має два сорти плям, та параметра перехоплення, який визначається з експерименту, надає
можливість визначити роботу виходу плям та значення часток поверхні, які вони займають