Проблема управления ионным потоком в технологических установках плазменно-ионной обработки
Аннотации
Рассмотрена проблема управления энергией и плотностью ионного потока вдоль поверхности обрабатываемой подложки в технологических устройствах плазменно-ионной обработки. Проведен анализ современных технологических систем и методов управления параметрами ионного потока. Розглянуто проблему управління енергією та щільністю іонного потоку вздовж поверхні оброблюваної підкладки в технологічних пристроях плазмово-іонної обробки. Проведено аналіз сучасних технологічних систем та методів управління параметрами іонного потоку.