Управление плотностью ионного тока от вакуумно-дугового источника в объеме вакуумной камеры при размещении управляющих электромагнитов под подложкой
Abstract
Предложена схема технологического устройства, которая позволяет обрабатывать детали
на протяженных подложках (до 400 мм) потоками ионов плазмы вакуумно-дугового источника
с помощью прогнозированной совокупности магнитных ловушек электронов плазмы путем
использования системы дополнительных электромагнитов. Разработана методика расчета
плотности ионного тока от вакуумно-дугового источника в объеме вакуумной камеры в
присутствии дополнительных управляющих магнитных полей, что позволяет прогнозировать
технологические режимы ионной обработки. Запропоновано схему технологічного пристрою, що дозволяє обробляти
деталі на великих підкладках (до 400 мм) потоками іонів плазми вакуумно-дугового
джерела плазми шляхом утворення прогнозованої сукупності магнітних пасток
електронів плазми шляхом використання системи додаткових електромагнітів.
Розроблено методику розрахунку густини іонного струму від вакуумно-дугового
джерела в об’ємі вакуумної камери за наявності додаткових керуючих магнітних
полів, що дозволяє прогнозувати технологічні режими іонної обробки. A schematic of a technological setup for treatment of parts arranged on extended
substrates (up to 400 mm) with ions from plasma of vacuum-arc source by use of
forecasted set of magnetic traps for plasma electrons, which is generated by a set of
additional electromagnets, is proposed. Method of calculation of the ion current density
from the vacuum-arc source in the volume of the vacuum chamber at presence of the
additional control magnetic fields is developed, which allows forecasting the operational
modes of the ion treatment.