Формирование алмазоподобных покрытий импульсными потоками плазмы

Abstract

В статье рассмотрены методы получения алмазоподобных покрытий. Проведен анализ вакуумных методов осаждения α–С-слоев и указаны преимущества импульсного вакуумно-дугового метода. Показано, что управление характеристиками разряда и, следовательно, свойствами осаждаемого алмазоподобного углерода реализуется с помощью разрядного контура формирующей линии. Описан температурный режим подложки при импульсном нанесении α–С-покрытий. Обоснован выбор импульсного ускорителя плазмы для технологических целей и необходимость разработки технологии синтеза алмаза и алмазоподобных структур.

У статті розглянуто методи одержання алмазоподібних покриттів. Проведено аналіз вакуумних методів осадження α–С-шарів та вказано переваги імпульсного вакуумно-дугового методу. Показано, що управління характеристиками розряду і, отже, властивостями алмазоподібного вуглецю, що осаджується, реалізується за допомогою розрядного контуру формуючої лінії. Описано температурний режим підкладки при імпульсному нанесенні α-С-покриттів. Обґрунтовано вибір імпульсного прискорювача плазми для технологічних цілей та необхідність розробки технології синтезу алмазу та алмазоподібних структур.