Математическое моделирование процессов в индукционных высокочастотных источниках плазмы и электронов

Abstract

В приближении однокомпонентной магнитной гидродинамики представлена математическая модель процессов в индукционных высокочастотных источниках плазмы и электронов. Уравнения записаны в двумерной форме в представлении об аксиальной симметрии задачи. Перенос импульса описан уравнением вязкости, в котором учтены влияния магнитного поля на диссипативные процессы в разреженной среде. Приведены предварительные оценки глубины магнитного скин-слоя и токового слоя. Сформулированы граничные условия, описывающие потоки частиц, импульса и энергии на поверхности устройства.

В наближенні однокомпонентної магнітної гідродинаміки представлено математичну модель процесів в індукційних високочастотних джерелах плазми і електронів. Рівняння записано у двовимірній формі в представленні про аксіальну симетрію задачі. Перенос імпульсу описано рівнянням в'язкості, в якому враховано вплив магнітного поля на дисипативні процеси у розрідженому середовищі. Наведено попередні оцінки глибини магнітного скін-шару і шару струму. Сформульовано граничні умови, які описують потоки часток, імпульсу і енергії на поверхні пристрою.