dc.contributor.author | Loyan, A.V. | |
dc.contributor.author | Nesterenco, S.U. | |
dc.contributor.author | Roshanpour, S. | |
dc.date.accessioned | 2022-09-21T15:25:20Z | |
dc.date.available | 2022-09-21T15:25:20Z | |
dc.date.issued | 2012 | |
dc.identifier.citation | Loyan, A. V. Non-emission electron source with high frequency ionization / A. V. Loyan, S. U. Nesterenco, S. Roshanpour // Авиационно-космическая техника и технология. – Харьков : ХАИ, 2012. – № 4(91). – P. 93–101. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 1727-7337 | |
dc.identifier.uri | http://dspace.library.khai.edu/xmlui/handle/123456789/2070 | |
dc.description.abstract | Mathematical model of the processes in inductive high frequency sources of plasma and electrons is represented
in single component magnetic hydrodynamics approximation. Equations are written in two-dimension
form in the supposition about axial symmetry of task. Motion transition is described by viscosity equation considering
magnetic field influence on dissipative processes in rarified substance. Preliminary estimations of
magnetic skin layer and current layer thickness are represented. Boundary conditions are written considering
particles, motion and energy flow on device surfaces. The results of source testing operating on argon and nitrogen
are represented. | uk_UA |
dc.description.abstract | Наведено математичну модель процесів в індукційних високочастотних джерелах плазми та електронів
в магнітогідродинамічній апроксимації для єдиної компоненти. Рівняння записані у двовимірній формі з
урахуванням аксіальної симетрії задачі. Переніс імпульсу описано рівнянням в'язкості, у якому враховано
вплив магнітного поля на дисипативні процеси у розрідженому середовищі. Наведено попередні оцінки
глибини магнітного скін-шару і струмового шару. Сформульовані граничні умови, що описують потоки
часток, імпульсу та енергії на поверхні приладу. Наведено результати випробувань джерела при роботі на
аргоні та азоті. | uk_UA |
dc.description.abstract | Представлена математическая модель процессов в индукционных высокочастотных источниках плазмы
и электронов в магнитогидродинамической аппроксимации для единственной компоненты. Уравнения
записаны в двумерной форме с учетом аксиальной симметрии задачи. Перенос импульса описан уравнением
вязкости, в котором учтены влияния магнитного поля на диссипативные процессы в разреженной среде.
Приведены предварительные оценки глубины магнитного скин-слоя и токового слоя. Сформулированы
граничные условия, описывающие потоки частиц, импульса и энергии на поверхности устройства.
Приведены результаты испытаний источника при работе на аргоне и азоте. | uk_UA |
dc.language.iso | en | uk_UA |
dc.publisher | ХАИ | uk_UA |
dc.subject | aerospace engineering and technology | uk_UA |
dc.subject | high frequency ionization | uk_UA |
dc.subject | plasma source | uk_UA |
dc.subject | electrons source | uk_UA |
dc.subject | авіаційно-космічна техніка і технологія | uk_UA |
dc.subject | ВЧ-іонізація | uk_UA |
dc.subject | джерело плазми | uk_UA |
dc.subject | джерело електронів | uk_UA |
dc.subject | ВЧ-ионизация | uk_UA |
dc.subject | авиационно-космическая техника и технология | uk_UA |
dc.subject | источник плазмы | uk_UA |
dc.subject | источник электронов | uk_UA |
dc.title | Non-emission electron source with high frequency ionization | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |