Show simple item record

dc.contributor.authorLoyan, A.V.
dc.contributor.authorNesterenco, S.U.
dc.contributor.authorRoshanpour, S.
dc.date.accessioned2022-09-21T15:25:20Z
dc.date.available2022-09-21T15:25:20Z
dc.date.issued2012
dc.identifier.citationLoyan, A. V. Non-emission electron source with high frequency ionization / A. V. Loyan, S. U. Nesterenco, S. Roshanpour // Авиационно-космическая техника и технология. – Харьков : ХАИ, 2012. – № 4(91). – P. 93–101.uk_UA
dc.identifier.issn1727-7337
dc.identifier.urihttp://dspace.library.khai.edu/xmlui/handle/123456789/2070
dc.description.abstractMathematical model of the processes in inductive high frequency sources of plasma and electrons is represented in single component magnetic hydrodynamics approximation. Equations are written in two-dimension form in the supposition about axial symmetry of task. Motion transition is described by viscosity equation considering magnetic field influence on dissipative processes in rarified substance. Preliminary estimations of magnetic skin layer and current layer thickness are represented. Boundary conditions are written considering particles, motion and energy flow on device surfaces. The results of source testing operating on argon and nitrogen are represented.uk_UA
dc.description.abstractНаведено математичну модель процесів в індукційних високочастотних джерелах плазми та електронів в магнітогідродинамічній апроксимації для єдиної компоненти. Рівняння записані у двовимірній формі з урахуванням аксіальної симетрії задачі. Переніс імпульсу описано рівнянням в'язкості, у якому враховано вплив магнітного поля на дисипативні процеси у розрідженому середовищі. Наведено попередні оцінки глибини магнітного скін-шару і струмового шару. Сформульовані граничні умови, що описують потоки часток, імпульсу та енергії на поверхні приладу. Наведено результати випробувань джерела при роботі на аргоні та азоті.uk_UA
dc.description.abstractПредставлена математическая модель процессов в индукционных высокочастотных источниках плазмы и электронов в магнитогидродинамической аппроксимации для единственной компоненты. Уравнения записаны в двумерной форме с учетом аксиальной симметрии задачи. Перенос импульса описан уравнением вязкости, в котором учтены влияния магнитного поля на диссипативные процессы в разреженной среде. Приведены предварительные оценки глубины магнитного скин-слоя и токового слоя. Сформулированы граничные условия, описывающие потоки частиц, импульса и энергии на поверхности устройства. Приведены результаты испытаний источника при работе на аргоне и азоте.uk_UA
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherХАИuk_UA
dc.subjectaerospace engineering and technologyuk_UA
dc.subjecthigh frequency ionizationuk_UA
dc.subjectplasma sourceuk_UA
dc.subjectelectrons sourceuk_UA
dc.subjectавіаційно-космічна техніка і технологіяuk_UA
dc.subjectВЧ-іонізаціяuk_UA
dc.subjectджерело плазмиuk_UA
dc.subjectджерело електронівuk_UA
dc.subjectВЧ-ионизацияuk_UA
dc.subjectавиационно-космическая техника и технологияuk_UA
dc.subjectисточник плазмыuk_UA
dc.subjectисточник электроновuk_UA
dc.titleNon-emission electron source with high frequency ionizationuk_UA
dc.typeArticleuk_UA


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record