Показати скорочений опис матеріалу

dc.contributor.authorБаранов, О.О.
dc.date.accessioned2023-04-10T08:37:16Z
dc.date.available2023-04-10T08:37:16Z
dc.date.issued2012
dc.identifier.citationБаранов, О. О. Проблема управления ионным потоком в технологических установках плазменно-ионной обработки / О. О. Баранов // Открытые информационные и компьютерные интегрированные технологии : сб. науч. тр. – Харьков, 2012. – Вып. 55. – С. 52–66.uk_UA
dc.identifier.issn2071-1077
dc.identifier.urihttp://dspace.library.khai.edu/xmlui/handle/123456789/4742
dc.description.abstractРассмотрена проблема управления энергией и плотностью ионного потока вдоль поверхности обрабатываемой подложки в технологических устройствах плазменно-ионной обработки. Проведен анализ современных технологических систем и методов управления параметрами ионного потока.uk_UA
dc.description.abstractРозглянуто проблему управління енергією та щільністю іонного потоку вздовж поверхні оброблюваної підкладки в технологічних пристроях плазмово-іонної обробки. Проведено аналіз сучасних технологічних систем та методів управління параметрами іонного потоку.uk_UA
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherХАИuk_UA
dc.subjectплазменно-ионная обработкаuk_UA
dc.subjectионный потокuk_UA
dc.subjectуправлениеuk_UA
dc.subjectплазмово-іонна обробкаuk_UA
dc.subjectіонний потікuk_UA
dc.subjectуправлінняuk_UA
dc.titleПроблема управления ионным потоком в технологических установках плазменно-ионной обработкиuk_UA
dc.typeArticleuk_UA


Долучені файли

Thumbnail

Даний матеріал зустрічається у наступних фондах

Показати скорочений опис матеріалу