| dc.contributor.author | Сысоев, Ю.А. | |
| dc.contributor.author | Татаркина, И.С. | |
| dc.contributor.author | Шматко, А.А. | |
| dc.date.accessioned | 2023-04-10T08:44:24Z | |
| dc.date.available | 2023-04-10T08:44:24Z | |
| dc.date.issued | 2012 | |
| dc.identifier.citation | Сысоев, Ю. А. Процессы микродугообразования в ионно-плазменных технологиях и их подавление / Ю. А. Сысоев, И. С. Татаркина, А. А. Шматко // Открытые информационные и компьютерные интегрированные технологии : сб. науч. тр. – Харьков, 2012. – Вып. 55. – С. 144–153. | uk_UA |
| dc.identifier.issn | 2071-1077 | |
| dc.identifier.uri | http://dspace.library.khai.edu/xmlui/handle/123456789/4744 | |
| dc.description.abstract | В технологических плазменных процессах с созданием плазмы тлеющим разрядом
возникает проблема несанкционированного его перехода в дуговой разряд.
Предотвращение этого отрицательного явления – дугообразования – является актуальной
задачей, полноценное решение которой позволит существенно повысить качество
обработки изделий в ионно-плазменных технологических процессах. | uk_UA |
| dc.description.abstract | У технологічних плазмових процесах із створенням плазми тліючим розрядом виникає проблема несанкціонованого його переходу до дугового розряду. Запобігання цьому негативному явищу – дугоутворенню – є актуальним завданням, повноцінне вирішення якого дозволить суттєво підвищити якість обробки виробів у іонно-плазмових технологічних процесах. | uk_UA |
| dc.language.iso | ru | uk_UA |
| dc.publisher | ХАИ | uk_UA |
| dc.subject | тлеющий разряд | uk_UA |
| dc.subject | дуговой разряд | uk_UA |
| dc.subject | процесс дугообразования | uk_UA |
| dc.subject | катодные пятна | uk_UA |
| dc.subject | тліючий розряд | uk_UA |
| dc.subject | дуговий розряд | uk_UA |
| dc.subject | процес дугоутворення | uk_UA |
| dc.subject | катодні плями | uk_UA |
| dc.title | Процессы микродугообразования в ионно-плазменных технологиях и их подавление | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |
