| dc.contributor.author | Сысоев, Ю.А. | |
| dc.date.accessioned | 2023-05-04T06:56:08Z | |
| dc.date.available | 2023-05-04T06:56:08Z | |
| dc.date.issued | 2013 | |
| dc.identifier.citation | Сысоев, Ю. А. Тепловой режим катодов технологических источников плазмы / Ю. А. Сысоев // Открытые информационные и компьютерные интегрированные технологии : сб. науч. тр. – Харьков, 2013. – Вып. 62. – С. 80–88. | uk_UA |
| dc.identifier.issn | 2071-1077 | |
| dc.identifier.uri | http://dspace.library.khai.edu/xmlui/handle/123456789/4894 | |
| dc.description.abstract | Рассмотрен тепловой режим катодов вакуумно-дуговых источников плазмы с различным
типом охлаждения. Исследовано стационарное температурное поле катода с охлаждением
как по торцевой, так и по боковой поверхностям при различной геометрии катода и
плотности теплового потока на его рабочую поверхность. | uk_UA |
| dc.description.abstract | Розглянуто тепловий режим катодів вакуумно-дугових джерел плазми з різним типом охолодження. Досліджено стаціонарне температурне поле катода з охолодженням як по торцевій, так і бічній поверхнях при різній геометрії катода і щільності теплового потоку на його робочу поверхню. | uk_UA |
| dc.language.iso | ru | uk_UA |
| dc.publisher | ХАИ | uk_UA |
| dc.subject | катод | uk_UA |
| dc.subject | тепловой режим | uk_UA |
| dc.subject | плазма | uk_UA |
| dc.subject | вакуумно-дуговой источник | uk_UA |
| dc.subject | тепловий режим | uk_UA |
| dc.subject | вакуумно-дугове джерело | uk_UA |
| dc.title | Тепловой режим катодов технологических источников плазмы | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |
