dc.contributor.author | Баранов, О.О. | |
dc.date.accessioned | 2023-06-27T08:18:41Z | |
dc.date.available | 2023-06-27T08:18:41Z | |
dc.date.issued | 2015 | |
dc.identifier.citation | Баранов, О. О. Управление плотностью ионного тока от вакуумно-дугового источника в объеме вакуумной камеры при размещении управляющих электромагнитов под подложкой / О. О. Баранов // Открытые информационные и компьютерные интегрированные технологии : сб. науч. тр. – Харьков, 2015. – Вып. 68. – С. 37–47. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 2071-1077 | |
dc.identifier.uri | http://dspace.library.khai.edu/xmlui/handle/123456789/5119 | |
dc.description.abstract | Предложена схема технологического устройства, которая позволяет обрабатывать детали
на протяженных подложках (до 400 мм) потоками ионов плазмы вакуумно-дугового источника
с помощью прогнозированной совокупности магнитных ловушек электронов плазмы путем
использования системы дополнительных электромагнитов. Разработана методика расчета
плотности ионного тока от вакуумно-дугового источника в объеме вакуумной камеры в
присутствии дополнительных управляющих магнитных полей, что позволяет прогнозировать
технологические режимы ионной обработки. | uk_UA |
dc.description.abstract | Запропоновано схему технологічного пристрою, що дозволяє обробляти
деталі на великих підкладках (до 400 мм) потоками іонів плазми вакуумно-дугового
джерела плазми шляхом утворення прогнозованої сукупності магнітних пасток
електронів плазми шляхом використання системи додаткових електромагнітів.
Розроблено методику розрахунку густини іонного струму від вакуумно-дугового
джерела в об’ємі вакуумної камери за наявності додаткових керуючих магнітних
полів, що дозволяє прогнозувати технологічні режими іонної обробки. | uk_UA |
dc.description.abstract | A schematic of a technological setup for treatment of parts arranged on extended
substrates (up to 400 mm) with ions from plasma of vacuum-arc source by use of
forecasted set of magnetic traps for plasma electrons, which is generated by a set of
additional electromagnets, is proposed. Method of calculation of the ion current density
from the vacuum-arc source in the volume of the vacuum chamber at presence of the
additional control magnetic fields is developed, which allows forecasting the operational
modes of the ion treatment. | uk_UA |
dc.language.iso | ru | uk_UA |
dc.publisher | ХАИ | uk_UA |
dc.subject | плазменно-ионная обработка | uk_UA |
dc.subject | вакуумная камера | uk_UA |
dc.subject | электромагнит | uk_UA |
dc.subject | плазмово-іонна обробка | uk_UA |
dc.subject | вакуумна камера | uk_UA |
dc.subject | електромагніт | uk_UA |
dc.subject | plasma-ion processing | uk_UA |
dc.subject | vacuum chamber | uk_UA |
dc.subject | electromagnet | uk_UA |
dc.title | Управление плотностью ионного тока от вакуумно-дугового источника в объеме вакуумной камеры при размещении управляющих электромагнитов под подложкой | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |