Управление плотностью ионного тока от вакуумно-дугового источника в объеме вакуумной камеры при размещении управляющих электромагнитов под подложкой

Abstract

Предложена схема технологического устройства, которая позволяет обрабатывать детали на протяженных подложках (до 400 мм) потоками ионов плазмы вакуумно-дугового источника с помощью прогнозированной совокупности магнитных ловушек электронов плазмы путем использования системы дополнительных электромагнитов. Разработана методика расчета плотности ионного тока от вакуумно-дугового источника в объеме вакуумной камеры в присутствии дополнительных управляющих магнитных полей, что позволяет прогнозировать технологические режимы ионной обработки.

Запропоновано схему технологічного пристрою, що дозволяє обробляти деталі на великих підкладках (до 400 мм) потоками іонів плазми вакуумно-дугового джерела плазми шляхом утворення прогнозованої сукупності магнітних пасток електронів плазми шляхом використання системи додаткових електромагнітів. Розроблено методику розрахунку густини іонного струму від вакуумно-дугового джерела в об’ємі вакуумної камери за наявності додаткових керуючих магнітних полів, що дозволяє прогнозувати технологічні режими іонної обробки.

A schematic of a technological setup for treatment of parts arranged on extended substrates (up to 400 mm) with ions from plasma of vacuum-arc source by use of forecasted set of magnetic traps for plasma electrons, which is generated by a set of additional electromagnets, is proposed. Method of calculation of the ion current density from the vacuum-arc source in the volume of the vacuum chamber at presence of the additional control magnetic fields is developed, which allows forecasting the operational modes of the ion treatment.