Определение температурного режима подложки при осаждении аламазоподобных покрытий импульсными источниками плазмы

Abstract

В статье рассмотрены условия образования алмазоподобного углерода. Проведен анализ температурного режима подложки при вакуумных методах получения α-С покрытий. Определены необходимые условия преобразования графит-алмаз: допустимое значение температуры обрабатываемого изделия и диапазон энергий падающих частиц углеродной плазмы. Предложена модель определения температурного режима подложки. Проведен расчет допустимой интегральной и мгновенной плотности теплового потока на подложку. Показана взаимосвязь плотности теплового потока с параметрами электрического разряда.

У статті розглянуті умови виникнення алмазоподібного покриття. Проведений аналіз температурного режиму підложки при вакуумних методах отримання α-С –покриттів. Визначені необхідні умови перетворення графіт-алмаз: допустиме значення температури виробу, що обробляється та діапазон енергій часток вуглецевої плазми. Запропонована модель визначення температурного режиму підложки. Проведений розрахунок інтегральної та миттєвої густин теплового потоку на підложку. Показаний взаємозв’язок густини теплового потоку з параметрами електричного розряду.