Проблемы ионно-плазменных технологий на основе вакуумно-дугового разряда и пути их решения

Abstract

Приведен анализ основных проблем ионно-плазменных технологий, в которых плазма генерируется вакуумно-дуговым разрядом с интегрально холодным катодом. Эти проблемы разделены на группы по выделенным основным зонам, характерным для рассматриваемых технологий. Кратко охарактеризованы известные методы и оборудование, позволяющие решить некоторые из существующих проблем, а также предложены новые решения, позволяющие повысить эффективность применяемых в промышленности технологий. Разработанное оборудование является незаменимым при создании нового поколения сложнокомпозиционных покрытий, в состав которых входят как металлы, так и несколько реакционных газов, а также при автоматизации процессов ионно-плазменной обработки.

Наведено аналіз основних проблем іонно-плазмових технологій, у яких плазма генерується вакуумно-дуговим розрядом з інтегрально холодним катодом. Ці проблеми розділені на групи відповідно до основних зон, які характерні для розглянутих технологій. Коротко охарактеризовані відомі методи й обладнання, що дозволяють вирішити деякі з існуючих проблем, а також запропоновані нові рішення, які дозволяють підвищити ефективність застосовуваних у промисловості технологій. Розроблене обладнання є незамінним при створенні нового покоління складнокомпозиційних покриттів, до складу яких входять як метали, так і кілька реакційних газів, а також при автоматизації процесів іонно-плазмової обробки.