Управління складом плазмового потоку вакуумно-дугових джерел
Abstract
Розглянуто питання управління кількістю крапельної фракції в плазмовому потоці технологічних вакуумно-дугових джерел плазми контрольованою зміною температури робочої поверхні катода. Рассмотрены вопросы управления количеством капельной фракции в плазменном потоке технологических вакуумно-дуговых источников плазмы контролируемым изменением температуры рабочей поверхности катода.