Теоретичне дослідження температурних полів міді при формуванні наноструктурних шарів у плазмовому середовищі

Abstract

Предметом вивчення і математична модель для теплових процесів під час формування наноструктур у плазмовому середовищі. У раніше проведених дослідженнях було показано, що для появи наноструктур необхідно, щоб була певна температура, швидкість її наростання та температурні напруження. Необхідна глибина приповерхневого шару оброблюваного матеріалу, найбільш сприятлива для утворення наноструктур, визначається там, де виникають найвищі температурні градієнти напруження. Метою роботи є визначення технологічних параметрів для стабільного отримання наноструктур при іонно-плазмовій на прикладі обробці поверхні міді. Завдання цієї роботи, змінюючи енергію іонів обирати розташування полів по глибині матеріалу, щоб генерувати необхідні градієнти високої температури у заданих площинах матеріалу.

Предметом изучения и математической модели для тепловых процессов при формировании наноструктур в плазменной среде. В проведенных ранее исследованиях было показано, что для появления наноструктур необходимо, чтобы была определенная температура, скорость ее нарастания и температурные напряжения. Необходимая глубина приповерхностного слоя обрабатываемого материала, наиболее благоприятная для образования наноструктур, определяется там, где возникают самые высокие температурные градиенты напряжения. Целью работы является определение технологических параметров для стабильного получения наноструктур при ионноплазменной на примере обработке поверхности меди. Задание этой работы, изменяя энергию ионов выбирать расположение полей по глубине материала, чтобы генерировать необходимые градиенты высокой температуры в заданных плоскостях материала.

The subject of study is a mathematical model for thermal processes during the formation of nanostructures in a plasma medium. In earlier studies, it was shown that for the appearance of nanostructures, it is necessary to have a certain temperature, its growth rate, and temperature stresses. The necessary depth of the near-surface layer of the processed material, which is most favorable for the formation of nanostructures, is determined where the highest temperature stress gradients occur. The purpose of the work is to determine the technological parameters for the stable production of nanostructures during ion-plasma treatment of the copper surface as an example. The task of this work, by changing the energy of the ions, is to choose the location of the fields in the depth of the material in order to generate the necessary high temperature gradients in the given planes of the material.