Инициирование вакуумно-дугового разряда в технологических источниках плазмы

Abstract

В работе выполнены комплексные исследования надежности и долговечности систем инициирования вакуумно-дугового разряда в технологических источниках плазмы различного типа: контактные с искровым поверхностным пробоем, двухступенчатые системы запуска с автономным плазменным инжектором и системы поджига, основанные на переходе тлеющего разряда в дуговой. На основе полученных данных разработаны конструкции вакуумно-дуговых источников плазмы с эффективным запуском, обеспечивающим их работу в широком диапазоне технологических параметров. Описаны новые способы возбуждения дугового разряда, существенно повышающие эксплуатационные характеристики источников плазмы. Намечены пути дальнейшего совершенствования систем инициирования.

У роботі виконані комплексні дослідження надійності і довговічності систем ініціювання вакуумно-дугового розряду в технологічних джерелах плазми різного типу: контактні з іскровим поверхневим пробоєм, двоступінчасті системи запуску з автономним плазмовим інжектором і системи запалювання, засновані на переході тліючого розряду в дуговий. На основі отриманих даних розроблені конструкції джерел плазми з ефективним запуском, що забезпечує їх працездатність в широкому діапазоні технологічних параметрів. Описано нові способи збудження дугового розряду, що істотно підвищують експлуатаційні характеристики джерел плазми. Намічені шляхи подальшого вдосконалення систем ініціювання.