Тепловой режим катодов технологических источников плазмы

Abstract

Рассмотрен тепловой режим катодов вакуумно-дуговых источников плазмы с различным типом охлаждения. Исследовано стационарное температурное поле катода с охлаждением как по торцевой, так и по боковой поверхностям при различной геометрии катода и плотности теплового потока на его рабочую поверхность.

Розглянуто тепловий режим катодів вакуумно-дугових джерел плазми з різним типом охолодження. Досліджено стаціонарне температурне поле катода з охолодженням як по торцевій, так і бічній поверхнях при різній геометрії катода і щільності теплового потоку на його робочу поверхню.